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純锡電(diàn)鍍化(huà)學(xué)之(zhī)卓越特(tè)征
• 在存貯測试以(yǐ)後(hòu)無颊须産生(shēng)
• 甲烷磺酸化(huà)學(xué)根(gēn)據(jù)
• 鍍锡厚度(dù)Cpk > 2.0
• 白(bái)亞光完成(chéng)之(zhī)電(diàn)鍍表(biǎo)面(miàn)
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純锡電(diàn)鍍化(huà)學(xué)之(zhī)卓越特(tè)征
• 在存貯測试以(yǐ)後(hòu)無颊须産生(shēng)
• 甲烷磺酸化(huà)學(xué)根(gēn)據(jù)
• 鍍锡厚度(dù)Cpk > 2.0
• 白(bái)亞光完成(chéng)之(zhī)電(diàn)鍍表(biǎo)面(miàn)
• 高(gāo)速沉積速率
• 高(gāo)级投擲力量(liàng)
• 無泡沫形成(chéng)
• 無污積形成(chéng)
• 5年(nián)內(nèi)無须更(gèng)換電(diàn)鍍液
• 适用(yòng)于(yú)不(bù)同(tóng)類(lèi)型的(de)運行設備
• 适用(yòng)于(yú)在不(bù)同(tóng)基本(běn)材料運作(zuò)(铜(tóng),合金(jīn)42,鎳...)